セラミックスやグラファイトなどの焼成や焼結に使用される炉です。
N2、Ar、Heなどの不活性ガス雰囲気を使用し、真空から0.99MPaまでの高圧雰囲気中で2,800℃までの高温運転が行える不活性ガス雰囲気炉をはじめ、大気やO2雰囲気中で、1,700℃まで加熱できる酸化雰囲気炉や、H2雰囲気や0.01Pa以下の高真空中で、2,500℃まで加熱できる高真空雰囲気炉、ハロゲンガス、純化炉、最高30MPaの超高圧ガスが使用でき、脱脂・焼結工程の簡略化を実現する低圧HIP、真空から常圧までの処理ができる常圧高温炉などがあり、各種仕様の高温炉を標準化しています。

厚板を機械加工によりくり抜いて製造する、当社独自の製法により作られたプレスフレームは、従来の溶接構造のプレスフレームに見られた面くるいや変形などの経年変化がなく、理論値どおりの高圧プレスが行えます。またプレスルームは横移動することができ（実用新案）、操業性、安全性に優れています。さらにガス圧高温炉と同様に0.99MPaまでの高圧雰囲気中で2,800℃までの高温運転を行うことができます。
研究開発用には、酸化炉と雰囲気炉に移動式プレスフレームを備えた2炉1プレス型の“ツインホットプレス”をはじめ、1炉1プレス型の、“シングルホットプレス”、固定プレスフレームとフロントローディング方式を採用した箱型ホットプレスなど豊富な機種・サイズを標準化しています。

処理材はプッシャにより順次炉内へ搬送され、ホットプレスゾーンでプレスされます。
プレスは2,400℃までの高温雰囲気中で複数軸同時に行われ、量産を可能にしています。